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半导体加工废水怎么处理方法|半导体加工废水处理案例

建设项目蓝本 该封口测试仪厂坐落在珠四角地区划分,常见工作BGA、QFP等一体化控制电路封口产品的。因为产值变大,原先的废渣除理的设计满负荷什么意思运动,且是无法有效地除理将新增的含氰废渣。内容投入资金1200W去变革,的设计除理力800吨/日。 废气组成成分及來源 含氰焦化废水:电渡多种工序引起,氰化物有机废气浓度30-50mg/L; 高氧化还原电位废渣:来普通机械镀加工制作工艺 ,氧化还原电位盐浓度300-500mg/L; 可挥发废气:封裝村料除污诞生,含环氧漆树酯等可挥发物; 酸性废气:各工作难以清理水交织而成。 清理加工制作工艺 过程 改革后的体统进行"物理化学预治理 +生化学治理 +高級氧化物"加工过程路经: 含氰废水除理除理: 酸碱度氯化法:分有级破氰,一个钝化ORP掌控在300-350mV,三级钝化ORP>600mV; 网上监测网:24小时摄像头监控余氯和氰化物盐浓度。 高氟化物污水工作: 吹脱塔预办理:pH调至11,气水比3000:1,氟化物清除率70%; 短程水解酸化反水解酸化:调节DO在0.5mg/L下述,合理利用碳源25%。 一体化办理系统: 溶解碱化池:提高了生产废水可什么是生化性; 接受阳极氧化池:结合生物填料,气水比15:1; 效率高放置池:斜管组合填料,表面层工况1.0m³/(㎡·h)。 进一步整理机组: Fenton钝化:H2O2添加量200mg/L,Fe²⁺80mg/L; 生物工程渗透性炭滤池:进几步取除COD和清晰度。 然后实际效果 改装后机系统执行比较稳定,溢水COD<40mg/L、氟化物<5mg/L、总氰化物<0.2mg/L,哪项指标图远高于地点排卸标准。吨水加工处理料工费从原本的的11.3元降为9.3元,年执行费勤俭节约约5五万元。污泥干化生成量避免30%,危废处理防范费相对变低。

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