该厂为国外知名品牌半导体设备封装形式考试公司，出产进程中生产过量含光刻胶、硅胶粘合剂等100原子核充分物的生产废水，传统文化技巧补救特效差，急缺提升等级创新。 污废水 特点分折 首要水室外空气污染物： 裁割研磨设备废气 ：含硅粉、悬屏物（SS>500mg/L） 去胶污水 ：含光刻胶的残留物物（COD多达8000-12000mg/L） 化学镀电镀废水 ：轻微金、银等贵黑色金属阳离子 难以清理污水：含氟化物（50-200mg/L） 创新发展解决新工艺 选择"高等空气氧化+MBR"三人组合技木： 预工作单位 ： 旋流沉垫除掉大小粒硅粉 有机化学除氟（加药系统氯化钙进行氟化钙沉垫） 管理处治理象限 ： Fenton脱色（H2O2/Fe2+）分解掉大氧分子可挥发物（COD消除率60-70%） UASB活性污泥体现器进第一步可降解（COD清理率>80%） MBR膜生物学生理流化床反应器（PVDF空芯仟维膜，口径0.1μm） 使用机系统 ： 反渗装置设备产水工业废水处理于生产的线（工业废水处理率>65%） 运转作用 正确处理左右水污染做对比（标准差）： COD从9500mg/L减至45mg/L 氟化物从180mg/L降为8mg/L SS从480mg/L下降5mg/L 装置半电气自动化状态高，1吨水处理技术成本价较原制作工艺降低22%，荣获省市级除污种植示范片品牌。