高性能光电材料废水怎么处理方法|高性能光电材料废水处理案例
该厂研发OLED表示屏,废水清理含难溶解充分被污染的物(如DMF、NMP等),传统化生化学法清理生产率低,且会存在渗透性治理和改善微生态学灵活性的状况。
生产废水材料及源头
NMP焦化废水
:N-甲基吡咯烷酮氧浓度约3000mg/L,BOD/COD<0.2,可生化学性较差。
成像液污废水
:含四甲基氢氧化反应铵(TMAH),兼备酸性性和怪物毒素。
进行处理技术流程步骤
物理化学预除理
高氧化反应
(Fenton免疫试剂):将脂溶性结构有机化学物断链,不断提高可生物化性,COD除掉率40%-50%。
结合沉淀自己
:调节器pH至中性化,去掉TMAH等偏碱性物料。
持种血生化处里
耐毒菌株训练
:添加专性分解菌群,适应能力高盐、高毒大环境。
MBR膜生物体现象器
:依照极有效率水解酸化池,淤泥有机废气浓度完善至8000mg/L,COD剔除率>90%。
端部确保
什么是臭氧催化反应的氧化的
:完全彻底可降解残渣生产物,满水后COD<30mg/L。
决定功效
NMP溶解率>99%,TMAH完成的还原。
装置抗挑战效果强,可适于饮用水质起伏。
总布局电脑运行制造费较传统艺术生产技术调低25%,无危险废物行成。
结语
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