某半导体技术手工制造企业的因晶圆拆洗工作生成含氨废水解决工艺，水流量200吨/天。废水解决工艺中除挥发酚外还所含氟化物和少量天价属，解决难度很大大。当地的摆放准则标准挥发酚＜5mg/L，氟化物＜3mg/L。 生产废水物质及源 晶圆的洗涤电镀废水（主耍源于）：含氯离子200-300mg/L，氟化物50-80mg/L 刻蚀加工过程废液：含氢化物发生器铜、镍等巨资属，pH值跌涨大 CMP打磨生产废水：含硅颗料及氧化还原电位 整理技术流量 进行"有机化学沉淀物中+膜隔离+折点氯化"组合名字加工过程： 预治疗 ：污泥脱水CaCl2除氟，的控制pH在7.5-8. 反渗透装置系統 ：的还原0.01μm上文颗料物 超滤到精炼 ：将氯离子果汁至1000mg/L之上 折点氯化 ：正确把控氯添加量，将化学需氧量转换为氦气 正离子互相交换 ：维护天价属及格 终结视觉效果 挥发酚稳定可靠＜3mg/L，氟化物＜1mg/L 高价属量不高于判断限 水回收利用率达75% 污水生产量缩减40%